Achiziții directe

O înregistrare descrie o atribuire sau un rând de contract. Același contract poate avea mai multe loturi ori câștigători; atribuirea nu confirmă livrarea sau plata.

Achiziții directe

armaturi

Benzene-1,3,5-tricarboxaldehyde, 97%, 250MG

NITRIC ACID, 70%, A.C.S. REAGENT , 500ML

1,3,5-Triformylbenzene 97%

Rhodamine B, 97%, 25G

Microtuburi Eppendorf 3810X 1,5 ml, PP, 1000 tubes-

Bara magnetica cilindrica, L=10 mm x D=3 mm

ACETONE R. G., PE BOTTLE, REAG. ACS, REAG. ISO,REAG. PH. EUR., 1L

4,4',4'',4'''-(Pyrene-1,3,6,8-tetrayl)tetrabenzaldehyde, 97%, 1G

Pachet racordurie 6 si 1/4 mm

Potassium chloride 99.5-101.0%

Methyl orange RPE - For analysis - C.I. 13025 - ACS, 50G

Remover pentru resist (substanta de dizolvare) AR 600-71

Resist pozitiv sensibil la fascicul de electroni AR-P 6200.04

Substanta developanta pentru fotoresist AZ 726 MIF Developer, 5 L

Manusi protectie chimica Microflex 93-260, 50 buc/cut Marimea M

Substanta de dizolvare mr-Rem 700 Remover, 5 L

Fotoresist ma-N 1410, 0.25 L

Manusi protectie chimica Microflex 93-260, 50 buc/cut Marimea L

Substanta pt. depunere strat subtire aderent

Substanta pt. depunere strat subtire conductor

Manusi albastre nitril, nepudrate, Microflex 93-853, 50buc/cutie Marimea 8.5-9

Substanta developanta pentru resist MIBK:IPA 1:3 Developer, 4 L

Substanta de dizolvare pentru fotoresist TechniStrip P1331 – MOS, 5 L

Substanta de dizolvare pentru fotoresist TechniStrip NI555 – MOS, 5 L

Resist pozitiv sensibil la fascicul de electroni AR-P 6200.09

Fotoresist ma-N 1405, 0.25 L-CPV 24300000-7

Resist pozitiv sensibil la fascicul de electroni 950 PMMA A7, 0.5 L

Substanta developanta pentru fotoresist ma-D 533/S Developer, 5 L

Manusi albastre nitril, nepudrate, Microflex 93-853, 50buc/cutie - Marimea 7.5-8